數控疲勞試樣低應力縱向拋光機

設備滿足 NADCAP AC7101/7D, ASTM E606/E606M X3  有關(guan) 疲勞試樣的加工要求。

主要參數

1. 縱向磨拋，拋光過程無橫向動作，砂帶下襯橡膠厚度大於(yu) 5mm，磨拋壓力可調可監測，壓力不超過2.7kg。

2. 砂帶連續自動進給，進給量可調，實現每一砂帶區域隻磨拋一次。

3. 樣品的旋轉速度可調，樣品磨拋圈數可調。

4. 樣品上當前的磨拋砂粒實時清除。

設備技術參數

1. 基本參數

   磨拋功率：400W

   磨拋速度：無級可調

   磨拋行程：＞0-250mm

   工作直徑範圍：4-25.4mm

   分度範圍：0-360°

   機床總功率：1kw

    

2. 磨拋光係統組件：

   1）試件縱向磨拋，砂帶自動進給與(yu) 回收、砂帶下襯橡膠滾輪，磨拋壓力可調。有壓力監測和壓力調節

   2）砂帶放料係統采用脹拉力調節功能。

   3）砂帶收料係統、伺服扭力輸出檢測，補償(chang) 功能。

    

3. 試件定位夾緊係統：

   1）雙頂使用氣動三爪裝置中孔回轉缸夾緊，快速拆卸更換。

   2）試樣使用中孔定位雙頂快速裝夾，帶防滑。

    

    

4. 動力頭縱向進給係統：

   1）伺服控製，具有快進、工進、快退功能，進給速度可設置調整。

   2）研磨級絲(si) 杆進退係統，運行平穩持久、維持調整更換方便。

    

5. 動力頭回轉係統：

   1）采用台達伺服馬達配備同步齒形皮帶傳(chuan) 動，傳(chuan) 動平穩、節能。

   2）動力頭采用迷宮式防塵設計，避免拋光粉塵或砂屑進入主軸內(nei) 部引起主軸軸承的損壞。

    

6. 機床電器控製係統：

   1）機床設計，具有手動、半自動循環及自動循環等功能。

   2）人機液晶屏觸控操作與(yu) 設置界麵，權限管理。

   3）下置散熱電器櫃，結構緊湊，維修方便。

   4）進口品牌PLC及電器元器件，保證長效工作。

   5）機床配置電路穩壓濾波等裝置。

    

7. 安全、粉塵防護與(yu) 排泄係統：

   1）操作台麵獨立照明係統。

   2)   機床具有過載、斷電保護措施，附故障報警裝置。

   3） 電器元件均設置熱保護、磁保護，並耐-12℃的低溫潮濕環境。

   4） 自動啟動采用雙手啟動按鈕控製，急停按鈕設置。

   5） 床防護采用全封閉防護罩方式，工人操作部位的防護罩采用透明材料，便於(yu) 操作觀察，保證切屑不落地，油、氣不飛濺，無泄露，不汙染環境，易清理。

   6）  試件拋光部位壓縮跟蹤排泄，防止磨料二次汙染，下置吸塵屑鬥主動排屑。

    

主要電氣品牌

其餘(yu) 配備

沙帶橡膠輪更換備件

多組砂帶盤

碳化矽砂帶/氧化鋁砂帶（多種目數配置）

建議配備三工位以防止不同砂粒互相汙染，並減少更換砂帶的頻次，通常拋光三道可達到粗糙度 Ra 0.2-0.3μm